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來,看一看南非是如何保護發(fā)明創(chuàng)造的

2021-10-27
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  根據(jù)1978年《南非專利法》,一項發(fā)明只要是新的、有創(chuàng)造性的,并且能夠在貿(mào)易、工業(yè)或農(nóng)業(yè)中使用或應(yīng)用,則該發(fā)明就能夠得到專利保護。

  發(fā)明專利申請類型有別

  南非提供了兩種基本的專利申請類型,帶有臨時專利說明書的專利申請(下稱臨時專利申請)以及帶有完整專利說明書的專利申請(下稱完整專利申請)。還有一種補充專利申請,附屬于完整專利申請。

  如果發(fā)明尚處于早期測試階段,可能需要進一步的改進、研究或者確定商業(yè)前景,可考慮提交臨時專利申請。臨時專利申請通常用來建立優(yōu)先權(quán),僅為發(fā)明提供為期12個月的保護期。提交臨時專利申請不必委托代理人,所以申請人可以自行準備文件并提出申請。臨時專利申請并不會賦予申請人任何可行使的權(quán)利,而是為申請人保留在12個月內(nèi)提交完整專利申請的權(quán)利。

  完整專利申請必須由專利代理人撰寫和提交。如果要求臨時專利申請的優(yōu)先權(quán),那么完整專利申請必須在臨時專利申請的申請日(即優(yōu)先權(quán)日)起12個月內(nèi)提出。需要注意的是,PCT國際專利申請進入南非國家階段時同樣必須委托代理人。

  南非不對專利申請進行新穎性、創(chuàng)造性等實質(zhì)審查,所以如果申請人不對申請進行主動修改,且申請不包含形式缺陷的話,該申請就會被接受。這通常發(fā)生在提交申請之日起18個月內(nèi),但這一期限可以依請求延長。延長期限后最晚不能遲于申請日起18個月。

  在專利申請被授權(quán)前,申請人可以提交分案申請。此外,在申請日起12個月內(nèi)且在完整專利申請被接受之前,申請人可以請求將完整專利申請轉(zhuǎn)換為臨時專利申請。

  在提交發(fā)明專利申請之后或者在授予專利權(quán)之后,同一企業(yè)常常仍然會不斷地對自己的發(fā)明進行改進,那么在主發(fā)明的基礎(chǔ)上可以就微小的補充、改進或者修改申請補充專利。這些微小改進相對于同一權(quán)利人已有的專利可能具備新穎性但是缺乏創(chuàng)造性。補充專利與主發(fā)明專利是不可分割的,所以申請人應(yīng)當是原申請的申請人或者原專利的專利權(quán)人。補充專利的保護期限與原專利的保護期限相同,即補充專利的保護期為主發(fā)明專利未到期的部分。主發(fā)明專利及其補充專利不應(yīng)相互分開轉(zhuǎn)讓。

  功能性外觀設(shè)計予以保護

  在南非還可以通過外觀設(shè)計制度為發(fā)明創(chuàng)造提供保護。南非設(shè)置了兩種類型的注冊外觀設(shè)計,即美學(xué)外觀設(shè)計和功能性外觀設(shè)計。功能性外觀設(shè)計涉及對于產(chǎn)品功能而言必須的設(shè)計特征,這為保護創(chuàng)新技術(shù)方案提供了一種便捷、便宜的方式。

  功能性外觀設(shè)計是指應(yīng)用于任何物品的任何圖案、形狀或構(gòu)造或者這些目的中的任意二者或者以上的外觀設(shè)計,不論其以何種方式應(yīng)用,都具有應(yīng)用該外觀設(shè)計的物品完成其功能所必需的特征。

  如果一項外觀設(shè)計在申請日或發(fā)布日之前(以較早者為準)不構(gòu)成現(xiàn)有設(shè)計的一部分,則應(yīng)被視為一項新的外觀設(shè)計。即使外觀設(shè)計已經(jīng)公開,包括發(fā)布、銷售外觀設(shè)計產(chǎn)品,申請人如果能夠在6個月的寬限期內(nèi)及時提交注冊申請的話,仍然可以得到有效的外觀設(shè)計注冊。

  功能性注冊外觀設(shè)計的保護期限為10年,自注冊日(即申請日)或者發(fā)布日起計算,以其中較先的日期為準,短于美學(xué)外觀設(shè)計15年的保護期限。

   南非專利制度對于專利申請人是非常友好的,有學(xué)者將其概括為六個方面,包括證明專利無效的責任在侵權(quán)訴訟中的被告,專利在侵權(quán)程序中被認定無效僅對相對人產(chǎn)生效果等。我國企業(yè)在南非進行專利布局保護發(fā)明創(chuàng)造時,須充分利用南非的上述制度優(yōu)勢,但是也要警惕可能存在的風(fēng)險。例如,因為南非專利沒有經(jīng)過實質(zhì)審查,所以在調(diào)查合作伙伴或者競爭對手的專利狀況并評估專利價值的時候,也要將此納入考慮范疇。同時,盡職調(diào)查時還要考慮未公開的臨時專利申請以及完整專利申請的影響。